Главная » 2015 » Декабрь » 9 » Метод испарения в вакууме
15:47
Метод испарения в вакууме
Метод испарения в вакууме выгодно отличается от катодного распыления тем, что он позволяет быстро получать покрытия, содержащие очень малые количества газов и его можно использовать для металлизации внутренних поверхностей полых изделий. Кроме топ процесс испарения в вакууме легко управляется и дает возможность получать в заранее намеченных местах пленки точных очертаний и размеров. Окошки и просветы в покрытиях при металлизации внутренней поверхности оболочек вакуумных приборов можно получить, экранируя нужные участки пластинки и слюды или стеклянными шариками. По окончании процесса экраны удаляют или, если испарение ведут в отпаянных лампах, смещают их в нижнюю часть колбы. Иногда для удаления части покрытия применяют травление.
Гелевые Шарики Кривой Рог Вы можете купить на специальном сайте в интернете. Там есть вся необходимая информация про покупку гелевых шариков.
Просмотров: 344 | Добавил: admin | Рейтинг: 0.0/0
Всего комментариев: 0
avatar